BMS560B型磁控溅射与热蒸发镀膜设备

2017-03-17 点击量：

1. 用于制备半导体、金属、磁性、有机高分子材料、陶瓷和化学反应沉积薄膜，适用于各种单层膜、多层膜及掺杂膜系
2. 配有多套磁控靶，配有电动挡板，靶角度可沿轴线调节，可实现共溅射
3. 蒸发源多组，电极水冷，蒸发源之间隔断，且均有独立电动挡板，镀膜均匀性良好。